光刻膠的成膜性能，主要應用于剛性或柔性物體表面的微紋，對基材具有良好的潤濕性、優良的成膜性能、厚度均勻及無氣孔缺陷，容易成膜。

    壓印性能的標準則是因為在壓印過程中應用的光刻膠與傳統的曝光法有很大不同，如果硬度太大，會引起壓印力的增加，很可能會導致模板的損壞。

    硬度及粘度、固化速率、界面特性以及抗刻蝕能力也都是重中之重。

    畢竟光刻膠的主要用途是作為防蝕劑來轉移微圖像，這一過程需要有選擇地刻蝕，也就是在沒有光刻膠保護的零件上進行刻蝕，有光刻膠的部分因其耐刻蝕能力而受到保護，從而達到圖形傳遞的目的。

    每一個項目的參數都至關重要，每一個小項目的負責人以及實驗人員無一不是翹首以盼，希望自己負責的項目可以通過。

    但在沒有將所有項目公布完之前，沒有一位實驗員大聲慶祝，因為在這些時日的攻克難題當中，他們早就已經成為了戰友。

    這是一場沒有硝煙，只有材料與光學的戰爭。

    隨著項目測試的成績一項一項被周瑜報出來，等到最后周瑜說出設備的結論成果時：“適用于45納米制程工藝……”

    嘩啦啦的掌聲和略顯壓抑的吶喊聲頓時響起。

    但是僅僅就這么幾秒鐘，實驗室內眾人都趕忙停下了幅度過大的動作。

    雖然是在實驗室的公共區域，這里沒有什么精密儀器，但是眾人還是下意識想保護儀器設備的穩定狀態。

    畢竟在半導體領域，一個大分貝噪音都有可能影響到實驗結果。

    但是激烈的慶祝不行，走動之間，握手、相擁慶祝卻是沒有禁止。

    呼……

    楊剛省深深的呼吸了幾次，在整個實驗項目當中，他的壓力是最大的。

    畢竟當初他從臺積電離開之后，雖然已經安穩度過競業協議規定的時間，但是卻還要保證在整個試驗的過程中，不能將臺積電獨有的專利技術拿出來，所以每次都要小心翼翼的進行探索，每天晚上睡覺前，他本人甚至還要在腦海里復盤白天的工作，檢討每一處細節。

    周瑜在一旁，拍了拍楊剛省的肩膀。

    “辛苦了，有了這個開端，我們大夏聯邦也能夠有真正自主的半導體材料產業了，假以時日，我們也能做到全球頂尖。”